清潔工程清潔空間的溫濕度控制主要根據(jù)工藝標(biāo)準(zhǔn)確定，但在滿足工藝標(biāo)準(zhǔn)的條件下，應(yīng)考慮人的舒適性。隨著空氣清潔度要求的提高，工藝對溫濕度的要求越來越嚴(yán)格。

未來將列出具體工藝對溫度的要求，但作為一般原則，由于尺寸精度越來越精細(xì)，對溫度波動范圍的要求越來越小。例如，在大型集成電路制造的光刻曝光過程中，玻璃和硅片作為掩膜板材料的熱膨脹系數(shù)的差異越來越小。

直徑100 um硅片，溫度升高1度，導(dǎo)致0.24um線性膨脹，因此必須有±0.1度恒溫要求濕度值一般較低，因為出汗后會污染產(chǎn)品，尤其是怕鈉的半導(dǎo)體車間。這個車間的溫度不應(yīng)該超過25度，濕度過高會造成更多的問題。當(dāng)相對濕度超過55%時，冷卻水管內(nèi)壁會結(jié)露。如果出現(xiàn)在精密裝置或電路中，會造成各種事故。相對濕度在50%時容易生銹。

此外，當(dāng)濕度過高時，很難通過空氣中的水分子將附著在硅片表面的灰塵化學(xué)吸附在表面。相對濕度越高，附著力越難去除。但當(dāng)相對濕度低于30%時，由于靜電的作用，顆粒容易吸附在表面，大量半導(dǎo)體器件容易穿透。硅片生產(chǎn)的濕度范圍為35-45%。

對于大多數(shù)清潔空間，為了避免外部污染，需要保持內(nèi)部壓力（負(fù)壓）高于外部壓力（負(fù)壓）。保持壓差一般應(yīng)符合以下原則：

1、潔凈空間的壓力遠(yuǎn)高于非潔凈空間。

2、潔凈度高的空間壓力遠(yuǎn)高于鄰近潔凈度低的空間壓力。

壓差的維持取決于新風(fēng)量，這應(yīng)該能夠補(bǔ)償在這種壓差下從間隙泄漏的風(fēng)量。因此，壓差的物理意義是通過潔凈室各種縫隙泄漏（或滲入）風(fēng)量時的阻力。